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(一)、RCA Method
1、DI Water 5min,有明显粘污时用无尘布和酒精擦拭。
2、H2SO4:H2O2=3:1煮30min,去金属、有机、油。
3、DI Water 5min。
4、BOE 2 min,去自然氧化层(Native Oxide)。
5、DI Water 5min。
6、Spin Dry。
(二)、清洗事项:
1、有水则先倒水,H2O2最后倒,数字比为体积比。
2、有机与酸碱绝对不可混合,操作平台也务必分开使用。
3、酸碱溶液等冷却后倒入回收槽,并以DI Water冲玻璃杯5 min。
4、酸碱空瓶以水清洗后,并依塑料瓶、玻璃瓶分开置于室外回收筒。
5、氢氟酸会腐蚀骨头,若碰到立即用葡萄酸钙加水涂抹,再用清水冲洗干净,并就医。碰到其它酸碱则立即以DI Water大量冲洗。
6、清洗后之Wafer尽量放在DI Water中避免污染。
7、去除正光阻步骤为丙酮DI Water。
8、每个玻璃杯或槽都有特定要装的溶液+蚀刻、清洗、电镀、有机绝不能混合。
9、废液回收分酸、碱、氢氟酸、有机四种,分开回收并记录,倾倒前先检查废弃物兼容性表,确定无误再倾倒。
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